湖北真空等離子清洗設(shè)備廠家直銷
發(fā)布日期：2020-11-6 19:40:00
產(chǎn)品說明：
湖北真空等離子清洗設(shè)備廠家直銷：誠峰智造
真空式等離子處理系統(tǒng)
型號（Model）
CRF-VPO-10L-S
控制系統(tǒng)（Control system）
PLC+觸摸屏
電源（Power supply）
380V/AC,50/60Hz, 3kw
射頻電源功率（RF Power）
600W/13.56MHz
容量（Volume ）
120L(Option)
層數(shù)（Electrode of plies ）
8(Option)
有效處理面積（Area）
400(L)*300(W)(Option)
氣體通道（Gas）
兩路工作氣體可選：Ar、N2、H2、CF4、O2
外形（Appearance ）
鈑金結(jié)構(gòu)
產(chǎn)品特點
超大處理空間，提升處理產(chǎn)能，采用PLC+觸摸屏控制系統(tǒng)，精準的控制設(shè)備運行；
可按照客戶要求定制設(shè)備腔體容量和層數(shù)，滿足客戶的需求；保養(yǎng)維修成本低，便于客戶成本控制；
高精度，快響應(yīng)，良好的操控性和兼容性，完善的功能和專業(yè)的技術(shù)支持。
應(yīng)用范圍
真空等離子清洗機適用于印制線路板行業(yè)，半導(dǎo)體IC領(lǐng)域、硅膠、塑膠、聚合體領(lǐng)域，汽車電子行業(yè)，航空工業(yè)等。印制線路板行業(yè)：高頻板等離子表面活化，多層板表面清潔、去鉆污、軟板、軟硬結(jié)合板表面清潔、去鉆污，軟板補強前活化。半導(dǎo)體IC領(lǐng)域：COB、COG、COF、ACF工藝，用于打線、焊接前的清洗；硅膠、塑膠、聚合體領(lǐng)域硅膠、塑膠、聚合體的表面粗化、刻蝕、活化。
詳細參數(shù)：
湖北真空等離子清洗設(shè)備廠家直銷：誠峰智造
真空式等離子處理系統(tǒng)
型號（Model）
CRF-VPO-10L-S
控制系統(tǒng)（Control system）
PLC+觸摸屏
電源（Power supply）
380V/AC,50/60Hz, 3kw
射頻電源功率（RF Power）
600W/13.56MHz
容量（Volume ）
120L(Option)
層數(shù)（Electrode of plies ）
8(Option)
有效處理面積（Area）
400(L)*300(W)(Option)
氣體通道（Gas）
兩路工作氣體可選：Ar、N2、H2、CF4、O2
外形（Appearance ）
鈑金結(jié)構(gòu)
產(chǎn)品特點
超大處理空間，提升處理產(chǎn)能，采用PLC+觸摸屏控制系統(tǒng)，精準的控制設(shè)備運行；
可按照客戶要求定制設(shè)備腔體容量和層數(shù)，滿足客戶的需求；保養(yǎng)維修成本低，便于客戶成本控制；
高精度，快響應(yīng)，良好的操控性和兼容性，完善的功能和專業(yè)的技術(shù)支持。
應(yīng)用范圍
真空等離子清洗機適用于印制線路板行業(yè)，半導(dǎo)體IC領(lǐng)域、硅膠、塑膠、聚合體領(lǐng)域，汽車電子行業(yè)，航空工業(yè)等。印制線路板行業(yè)：高頻板等離子表面活化，多層板表面清潔、去鉆污、軟板、軟硬結(jié)合板表面清潔、去鉆污，軟板補強前活化。半導(dǎo)體IC領(lǐng)域：COB、COG、COF、ACF工藝，用于打線、焊接前的清洗；硅膠、塑膠、聚合體領(lǐng)域硅膠、塑膠、聚合體的表面粗化、刻蝕、活化。
等離子清洗機(plasma cleaner)也叫等離子清潔機，或者等離子表面處理儀，是一種全新的高科技技術(shù)，利用等離子體來達到常規(guī)清洗方法無法達到的效果。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)，并不屬于常見的固液氣三態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、原子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。等離子清潔機就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面，從而實現(xiàn)清潔、涂覆等目的。
等離子體和固體、液體或氣體一樣，是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的"活性"組分包括：離子、電子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。等離子體表面處理儀就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面，從而實現(xiàn)清潔、改性、光刻膠灰化等目的。
根據(jù)不同的等離子清洗機清洗法標準，可以分為：真空狀態(tài)等離子清洗、常壓狀態(tài)等離子、清洗低溫等離子清洗；也可以根據(jù)工作氣體分為：大氣等離子清洗機、氮氣等離子清洗機等。
低溫等離子設(shè)備其實也算是干洗法中的一種，和濕法清洗相比之下它具有工藝簡單，可控，而且產(chǎn)品可達到一次洗干凈，沒有殘留的目的。
而濕洗法它的最大的劣勢可能就是一次性洗不干凈，還會有殘留物，使用等離子設(shè)備進行的干洗它的反應(yīng)是需要氣體的，而我們所使用的氣體大多數(shù)是無毒害的，并且濕洗法很多是使用了大量的溶劑，其中也包含了很多的化學(xué)成分，對人體都是有害的，對環(huán)境也會有影響。
在使用等離子清洗機進行等離子體處理的過程中，它所包括的是兩種清洗過程，一種是化學(xué)的反應(yīng)，另一種是物理的反應(yīng)。
其中以化學(xué)反應(yīng)為主的等離子清洗機具有清洗速度非�？欤阅芎�，選擇性高，在對去除有機物，氧化物，以及做表面活化都有著相當(dāng)好的功效。
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